人抗EB病毒抗體(EBV)ELISA Kit
●誤差的來源:● 一個客觀存在的具有一定數(shù)值的被測成分的物理量，稱為真實值，測定值與真實值之差稱為誤差。根據(jù)產(chǎn)生誤差的原因，通常分為兩類，即系統(tǒng)誤差和偶然誤差。 系統(tǒng)誤差是由固定原因造成的誤差，在測定的過程中按一定規(guī)律重復(fù)出現(xiàn)，有一定的方同性，即測定值總是偏高或總是偏低，這種誤差的大小是可測的，所以又稱“可測誤差”。它來源于分析方法誤差、儀器誤差、試劑誤差和主觀誤差，如分析人員掌握操作規(guī)程與操作條件等因素。 偶然誤差是由于一些偶然的外因所引起的誤差，產(chǎn)生的原因往往是不固定的、未知的，且大小不一、或正或負，其大小是不可測的，這類誤差的來源往往一時難于覺察，可能是由于環(huán)境(氣壓、溫度、濕度)等的偶然波動或儀器的性能、分析人員對各份試樣處理時不一致所產(chǎn)生的。
編輯：小檀20190202
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